产品功能:主要检测透明或半透明的半导体材料表面膜层厚度、表面糙度以及波导结构。
系统架构及原理:本系统主要由光源、光纤、检测支架、光谱仪四部分组成,并辅以直流电源、光学透镜等组件运行,利用白光在穿透不同介质时产生光的折射及散射作用,利用光谱仪收集折射和散射后光的光谱,可分析出材料的膜层厚度、粗糙度等指标。
技术指标:
膜厚3-3200nm,测量精度1nm;
膜厚3-70μm,测量精度20-30nm;
技术亮点:高速在线膜厚分析,只需几毫秒即可获得测量结果,拥有极高的分析准确度,并且可同时分析计算多层膜厚。