双腔型高真空高速蒸镀系统

产品详情：

上下双腔,集表面处理与蒸发镀膜为一体,高效可靠的Indium蒸镀助手。

技术参数：

1超高真空腔体：离子源及蒸镀双腔体设计，包括负荷锁及Evaporation, 极限真空

极限压力<2e-8 Torr

2排气速率：从ATM到8E-7Torr<20分钟(负载锁)

3极限蒸发速率：5-12nm/s(铟)或100基板镀膜均一性<3%

4精准的样品冷却控制：-10-40ºC (精度±0.1）

5离子束清洗：考夫曼离子源，或100基板刻蚀均一性<3%

6人机界面：全自动化人机操作界面

7安全：工业标准安全互锁，工业安全联锁，报警装备