桌面型原子层沉积系统

产品详情：

桌面型原子层沉积系统 小巧紧凑的尺寸，功能强大，专为科研定制而来，科研工作者的ALD镀膜小助手。

技术参数 ：

1特色：结构紧凑，世界上*小尺寸的桌式ALD

2功能：高端制造，功能强大，操作简易，维护方便

3样品**尺寸   ：克级别粉末或100mm (其他尺寸可定制）

4样品反应温度：RT-300ºC

5前驱体 ：**可4组液态或固态反应前驱体, 可定制

6前驱体加热**温度 ：RT-200ºC

7包覆均一性：<1% (Al2O3)

8成膜速率：1Å/Cycle (Al2O3)

9人机界面：全自动化人机操作界面

10安全：工业标准安全互锁，报警系统