产品名称

中文名称：单层氮化硼薄膜（HBN）

英文名称：Monolayer boron nitride film（HBN）

性质 

覆盖率：100%

基底：SiO2/Si

晶粒尺寸：>4 um

氧化层：300 nm
硅：500 um

应用

HBN薄膜可被用作金属绝缘金属结构的超薄间隔层，以及电子的隧道阻挡层，使其具有广泛的应用，例如纳米电容器、场效应隧道晶体管。作为单分子膜还可被用作介质或基片。