什么是改进型胶体磨呢？

改进型胶体磨是上海依肯/IKN**研发的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良，在原来CM2000系列研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘。

 改性白炭黑油是什么呢？

改性白炭黑就是对白炭黑的改性

白炭黑改性  白炭黑的表面改性是利用一定的化学物质通过一定的工艺方法使白炭黑的表面烃基与化学物质发生反应，消除或减少其表面活性硅醇基的量，已达到改变表面性质的目的。

其一，将干燥的白炭黑与改性剂及一种有机溶剂（苯，甲苯等）组成的溶液加热煮沸，回流反应，然后分离、干燥。该法的主要特点是工艺简单，产品质量容易控制，改性剂耗量小。缺点是其产品后处理过程复杂，且造成有机溶剂污染，较难实现规模化工业生产。

其二，将干燥的白炭黑或洗涤后的沉淀白炭黑滤饼配制成水溶液浆料，加入水溶性有机溶剂如醇类或表面活性剂等，然后加入改性剂进行有机硅烷反应；再合成沉淀反应完成后的悬浮液中加入改性剂。该法的主要特点是工艺简单，补助设备少，可以对沉淀白炭黑尤其是沉淀白炭黑的半成品进行改性，有利于降低成本。例如，在硅酸钠和硫酸沉淀反应后的悬浊液中加入醋乳浊液

CMD2000改进型胶体磨为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。

CMD2000改进型胶体磨有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。

CMD2000系列改进型胶体磨的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

**级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

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改进型胶体磨的特点：

1、 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

2、 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

5、 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。\

设备核心参数：

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

CMD2000系列选型表
 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到**允许量的10%

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