产品关键词概述：偶氮二甲酰胺研磨分散机  偶氮二甲酰胺研磨机 偶氮二甲酰胺胶体磨  德国研磨分散机  高速研磨分散机   高剪切研磨分散机 

该品为白色或淡黄色粉末。溶于碱，不溶于酸；醇；汽油；苯；吡啶和水。120℃以上易分解，放出大量氮气，在密闭容器中易造成爆炸事故。在室温下贮存甚稳定，对设备无腐蚀作用。具有自熄性。与硫化促进剂和橡胶；塑料的其他配合剂无反应。Ba， Cd， Pb， Zn的有机盐类，可溶性的亚硝酸盐和硫氧酸盐能促进其分解。当加入氨；丙三醇和尿素衍生物时，会降低其分解温度。本品无毒。但生产原料水合肼有强腐蚀性，毒性很大。能侵蚀玻璃、橡胶、皮革和软木等。蒸气和液体能腐蚀皮肤、眼睛、鼻、喉和黏膜等。生产设备要密闭，防止与人体直接接触，溅及皮肤或人体时要用硼酸冲洗，并涂以硼酸软膏

偶氮二甲酰胺(英文名称azodicarbonamide)又名偶氮二酰胺;二氮烯二羧酸酰胺(diazinedicarboxamide);商品名为发泡剂AC或发泡剂ADC(Foamer ADC)，是一种白色或淡黄色粉末(如图所示)，无毒，无嗅，不易燃烧，具有自熄性。溶于碱，不溶于汽油、醇、苯、吡啶和水;化学式为C2H4N4O2,分子式为NH2CON=NCONH2。

偶氮二甲酰是一种在工业中常用到的发泡剂，可用于瑜伽垫、橡胶鞋底等生产，以增加产品的弹性。同时也可以用于食品工业，增加面粉团的强度和柔韧性。

上海IKN技术，独特创意，融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来CM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。

CMD2000系列是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择） 

CMD2000研磨机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。

咨询热线：13795214885 贾清清  微信同手机号  公司有样机可供客户购前实验，欢迎广大客户来我司参观指导！

研磨分散机的特点：

1、 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

2、 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

5、 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到**允许量的10%

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