一、设备主要用途:主要用于玻璃微球的制备。二、设备主要参数:1.**温度:1500℃。2.工作温度:1450℃。3.炉管内尺寸:Φ33×270(内径×长度)mm,详见用户炉管。4.加热方式:硅钼棒炉管外加热。5.温区数:设置1个独立控温区。6.控温精度:±2℃。7.控温方式:可控硅模块移相触发(SCR)控制。8.装机功率:6kW。
注:可根据用户要求设计生产。