IKN |
参考报价:147568 型号:ERS2000
产地:德国 在线咨询
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二氧化硅纳米分散机 二氧化硅分散机 是分散是至少两种互不相溶或者难以相溶且不发生化学反应的物质的混合过程。工业分散的目标是在连续相中实现“令人满意的”精细分布。
当固体颗粒分散到一种液体中时,形成一种悬浮液。当一种液体分散到另一种液体中时,形成一种乳浊液。在一种乳浊液的两个液相间的界面处,表面张力开始发生作用。新表面的产生需要能量。在没有外部影响的情况下,每个液相体系均企图以较少的能量达到乳浊液状态。
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二氧化硅纳米分散机
颗粒细化到纳米级后,其表面积累了大量的正、负电荷,纳米颗粒的形状极不规则,这样造成了电荷的聚集。纳米颗粒表面原子比例随着纳米粒径的降低而迅速增加,当降至1nm时,表面原子比例高达90%,原子几乎全部集中到颗粒表面,处于高度活化状态,导致表面原子配位数不足和高表面能。纳米颗粒具有很高的化学活性,表现出强烈的表面效应,很容易发生聚集而达到稳定状态,从而团聚发生
众所周知纳米氧化物极易产生自身的团聚,使得应有的性能难以充分发挥。此外,纳米氧化物的诸多奇异性能能否得到充分发挥,还取决于**限度降低粉体与介质间的表面张力。因此,纳米氧化物粉体必须均匀分散,充分打开其团聚体,才能发挥其应有的奇异性能。
气相二氧化硅有效发挥作用的关键是确保其在树脂中获得适当的分散。分散设计越好,则有效性越好。
对树脂行业而言,气相二氧化硅的分散可以使用多种方法,例如碾磨,高速剪切,球磨,砂磨,超声波分散等等,其中前两种方法使用的更多。就主要的分散步骤而言也有两种,即所谓的一步法和两步法 一步法是指将气相二氧化硅加入树脂中直接得到所需要的一定含量的产品,一步法的特点是生产工艺简单,比较适合大批量,产品单一的生产。
两步法是先将气相二氧化硅以较高的比例分散人树脂制成母料,然后再加入树脂稀释到一定的比例。两步法的特点是由于体系粘度较高,分散时剪切力较大,气相二氧化硅的分散较好,适合多品种生产。
目前,国x产品质量较好的企业使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散,能基本满足用户的需要。由于我们行业的特点,有相当多的中小企业分散设备十分落后,分散时根本形成不了剪切力,只是一种搅拌,气相二氧化硅在树脂中根本形成不了网状结构,从而无法发挥材料的性能。造成这种情况的主要原因① 尚未对分散的作用有正确的认识.许多生产商并未意识到分散的重要性;② 不知道对*终产品的品质如何评价,
二氧化硅纳米分散机是
气相二氧化硅质量小,很轻,极易飞扬,广泛应用于化妆品和农药行业。气相二氧化硅也被认为是Aerosil®(Aerosil®是德国德固赛公司气相二氧化硅产品注册商标)或Cabosil®(Cabosil®是美国卡博特公司的注册商标),通常用作补强剂,稳定剂或粘度调节剂。气相二氧化硅加工的难点在于湿化并达到相应的粘度。IKN在这个行业拥有丰富的经验,能够满足不同客户的要求。
IKN混合分散设备用于气相二氧化硅工业的优点
消除粉尘。IKN为气相二氧化硅与水的混合,设计多种解决方案。粉体直接从包装袋中吸入,或者可以跟您的工程师一起特殊定制工艺。
改善容器清洁问题。使用IKN在线粉体液体混合系统,能够消除容器壁的物料残留,改善清洁,并减少原材料浪费。
**化成分功能。很多公司在湿化二氧化硅工艺上都遇到困难,通常需要足够的剪切力来达到材料活性和特定粘度,只有IKN可以提供这种类型的剪切分散机,为气相二氧化硅湿化混合提供足够的剪切力。
二氧化硅纳米分散机
5封闭系统,防止灰尘和溶剂的排放
6润湿颗粒,从而防止结块的形成
7拆包卸料,不损失原料
8大大缩短生产时间
9通过更有效地碎裂原料,减少原料的添加
10紧凑的生产方法
11 开发了易于升级的过程,将实验室机器PLD用于生产机器PLD
12 机器可自动排水,具有CIP 清洗 和SIP功能
13 所有接触液体的部件为316L或316 Ti不锈钢
14完全自动化
15符合3A卫生和认证
16根据需要提供医药级别设备
IKN工程师和应用专家可协您解决关于机器PLD安装到您现有的工艺系统中或关于拓宽整套新型生产设备供应范围的问题。
应用领域: 还原奶 淀粉 蛋黄酱 奶粉 CMC 混悬液 有毒粉末 卡波 酶 色素 颜料 钛白粉 纳米材料 活性碳 白碳黑 染料 膨润土 | 应用领域: | |
PLD分散混合机的喂料可以通过在机器入口处安装的漏斗来进行。粉体喂料时可以完全手动,也可以选择半自动或全自动操作,同时您也可以选择输送机、气动装货设备或是其他的传输设备。粉体可以直接从包装袋中吸取,也可以通过一根管子被吸入机器。PLD分散混合机尽量减少粉体的与人直接接触,避免周围环境的污染,而且它减少了对人力的要求,使得喂料变得简单易行。 | ||
高速分散机 | 标准流量(H2O) | 输出转速 | 标准线速度 | 马达功率 | 进出口尺寸 |
型号 | l/h | rpm | m/s | kW | |
ERX 2000/4 | 700 | 20000 | 66 | 2.2 | DN25/DN15 |
ERX 2000/5 | 1,500 | 15,750 | 66 | 7.5 | DN40 /DN 32 |
ERX 2000/10 | 5,000 | 10,950 | 66 | 22 | DN50 / DN50 |
ERX 2000/20 | 10,000 | 7,300 | 66 | 37 | DN80 /DN 65 |
ERX 2000/30 | 30,000 | 4,000 | 66 | 75 | DN150 /DN 125 |
ERX 2000/50 | 50,000 | 3,000 | 66 | 160 | DN200 /DN 150 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
纳米分散机 二氧化硅纳米分散机
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