登录
金牌会员5年
访问量63524
气相沉积制粉一体真空炉
参考报价:面议
型号:MGC50-50-360HH
产地:广东
产品详情

气相沉积制粉一体真空炉

2.jpg

设备名称:氧化亚硅半连续气相沉积炉 

应用领域:氧化亚硅半连续量产 

工艺描述:高真空脱氧,气相沉积,自动研磨刮 料、炉外收集。可配AGV智能物流车

型号参数:

6.png

1.型号:MGC50-50-360HH

2. 技术参数:装料罐尺寸Φ400 * 1600,装料量Max.800Kg,工作温度1350℃,极限温度1600℃,温差控制精度3℃,真空度0.1* 0.5pa,气氛类别:Ar/N2,总功率150KW,工序时长8H/炉。

3. 工艺特点:适用于动力电池负极材料(氧化亚硅等可气相沉积材料)大批量生产用;温差控制精度高,高温高真空;具备脱脂、脱水、混炼反应、提纯等工艺能力。生产效率高,全程全封闭全自动化作业,生产能耗低,性能稳定,主要元器件皆为进口大品牌,是目前业界真空气相沉积制粉工艺优秀的解决方案。


×
留言内容
留言类型
姓名
单位
手机号
邮箱
留言内容
提交
首页
咨询