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真空井式坩埚炉
参考报价:面议
型号:真空井式坩埚炉
产地:上海
产品详情

本设备是由石英坩埚(或氧化铝陶瓷坩埚)和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片,也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。



井式炉

 

二、真空井式坩埚炉参数说明

型号

QSH-VCF-1200T

QSH-VCF-1400T

QSH-VCF-1700T

工作温度

1200

1400

1700

加热元件

电阻丝

硅碳棒

硅钼棒

热电偶

K

S

B

控温方式

51段可编程自动控制,PID调节控温精度

升温速率

0-10

0-20

控温精度

±1

真空度

-0.1MPa

炉膛材料

氧化铝陶瓷纤维板

炉壳

双层炉壳,风冷结构(炉底安装两个散热风扇),炉壳表面温度低于60

额定功率

1KW—8KW

常用炉膛尺寸

Φ240xH220mmΦ40xH300mmΦ60xH300mmΦ80xH300mmΦ100xH300mmΦ120xH300mm

 

 

三、温控程序曲线示意图(六段为例):

 

  

LD-1700M 说明书

 

四、温控程序对应符号及其意义:

 

提示符

输入数据

意义

C 01

0

起始温度值

t 01

60

从0~300℃的升值时间为60分钟

C 02

300

个目标温度值

t 02

10

300℃保温时间10分钟

C 03

300

第二个目标温度值

t 03

240

从300~1500℃的升值时间为240分钟

C 04

1500

第三个目标温度值

t 04

30

1500℃恒温时间10分钟

C 05

1500

第四个目标温度值

t 05

260

从1500~200℃的升值时间为260分钟

C 06

200

第五个目标温度值

t 06

-121

程序运行结束,自然降温

 


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